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    3.0N 氯化氫

    3.0N 氯化氫

    高純氯化氫是集成電路生產中硅片蝕刻,鈍化和外延等工藝的重要材料,也可用于金屬冶煉、光導通訊和科學研究領域。在眾多領域中的作用越來越重要。

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